Kiểm tra- Thử nghiệm

Thiết bị quang phổ (OES) phân tích hợp kim di động Model PMI Master Pro

Máy phân tích quang phổ phát xạ (OES) có thể sử dụng trong phòng thí nghiệm, vừa có thể sử dụng di động. (khối lượng 25kg).

Máy quang phổ phân tích hợp kim (hay còn gọi là Máy phân tích thép, máy phân tích nhômmáy phân tích đồng, máy quang phổ, thiết bị quang phổ, thiết bị phân tích hợp kim)  đang được  các doanh nghiệp và các tổ chức hoạt động trong lĩnh vực Đúc kim loại đenĐúc kim loại màu,  Gia công kim loạiLuyện kim đen,  Luyện kim màuPhân tích vật liệuNghiên cứu vật liệu  sử dụng ngày càng nhiều hơn để  giám sát  thành phần hóa học  của các nguyên tố trong kim loại.

  • Máy quang phổ phân tích hợp kim PMI Master Pro (PMP2) là thiết bị phân tích thành phần kim loại cấp cao sử dụng phương pháp quang phổ phát xạ với nguyên tắc sử dụng nguồn kích hoạt số để tạo tia lửa điện tần số cao trong môi trường khí trơ argon hoặc tạo hồ quang một chiều trong không khí. Máy quang phổ phân tích hợp kim có thể được sử dụng để phân tích thành phần cho nhiều nền kim loại khác nhau theo yêu cầu sử dụng.
  • Máy quang phổ phân tích hợp kim có độ chính xác cao có thể sử dụng để phân tích mẫu trong phòng thí nghiệm hoặc cũng có thể sử dụng để phân loại nhanh các hợp kim tại hiện trường. Thiết bị có thể sử dụng với nhiều loại đầu đo khác nhau cho nhiều ứng dụng khác nhau với cách tháo lắp rất đơn giản và nhanh chóng.
  • Bảo vệ “dịch chuyển” phổ đo với tính năng auto-profiling (thuật toán on-peak, độ chính xác 0.1 pixel) cho phép tự điều chỉnh theo sự thay đổi nhiệt độ của môi trường.
  • Sử dụng kỹ thuật "unique Jet-stream technology". Nhờ đó thiết bị có thể dễ dàng phân tích vật thể với bề mặt không phẳng hoặc dạng ống, cuộn,.. hoặc kể cả dạng dây mà chỉ sử dụng lượng khí argon rất nhỏ. Ngoài ra, máy quang phổ sử dụng các đầu đo với dây cáp quang cao cấp HPC optical fiber (high performance carbon). HPC là công nghệ cáp quang mới làm mất ảnh hưởng của hiệu ứng quá liều chiếu sáng. Khả năng “chỉ có một” trong việc truyền sáng và độ ổn định HPC cho phép việc phân tích thành phần carbon thấp và các nguyên tố quan trọng được thực hiện liên tục với độ chính xác và độ lặp lại cao.
  • Giới hạn phân tích của các nguyên tố nhẹ đạt tới rất thấp ( C:5 ppm; Si:5 ppm; P:5 ppm; S:5 ppm; Mg:1 ppm; N: 20 ppm…)
  • Phần mềm GRADE Database có 12 triệu tên gọi của 339,000 loại vật liệu từ 69 quốc gia và vùng lãnh thổ.
  • Xem thêm chi tiết thiết bị trên website của hãng sản xuất Hitachi high-tech

Tìm kiếm tin cậy: Máy phân tích thépMáy phân tích đồng, Máy phân tích nhômMáy quang phổ, Thiết bị phân tích hợp kim

 

Máy chính
Kích thước 320 mm x 360 mm x 500 mm (D x W x H)
Nguồn điện 90-250 VAC (50/60 Hz) - 24VDC
Khối lượng 25 kg
Công suất tiêu thụ trung bình 500W
Công suất tiêu thụ chế độ chờ 40W
Khí Argon
Độ tinh khiết ≥5.0
Áp lực 3 Bar
Hệ thống quang học
Hệ quang học

Theo nguyên lý Paschen-Runge Mounting

Dải bước sóng phân tích 185 - 420 nm và 170- 200 nm (với đầu đo UV Touch)
Cảm biến Cảm biến Multi-CCD với độ phân giải Pixel được tối ưu hóa.
Độ phân giải CCD 7 pico-meter
Độ tương phản 0.93 nm/m (1st order)
Tiêu cự 350 mm
Holographic grating 3000 grooves/mm
Hệ thống chân không Bơm có công suất 700W, có độ ồn thấp, ít phát sinh nhiệt và không cần bảo dưỡng bơm.
Kết nối qua Shut-off- valve, dễ dàng bảo dưỡng và thay thế cửa sổ quang học
Bộ phát plasma

 

Giới hạn phân tích của 1 số nguyên tố 

C: 20 ppm; Si: 30 pm; P: 30 ppm; S:30 ppm; Mg: 5 ppm…

Computer system

Hệ điều hành Microsoft® Windows® và màn hình cảm ứng

Sản Phẩm đã xem

Hệ thống đang xử lý, vui lòng chờ