Kiểm tra- Thử nghiệm

Thiết bị quang phổ (OES) phân tích hợp kim để bàn & Model OE750

Máy phân tích hợp kim Sử dụng cho phòng thí nghiệm với độ chính xác rất cao. Máy phân tích thép có dải bước sóng phân tích rất rộng: 116 – 766 nm (Dải nguyên tố từ H - U)

Máy quang phổ phân tích hợp kim (hay còn gọi là Máy phân tích thép, máy phân tích nhômmáy phân tích đồng, máy quang phổ, thiết bị quang phổ, thiết bị phân tích hợp kim)  đang được  các doanh nghiệp và các tổ chức hoạt động trong lĩnh vực Đúc kim loại đenĐúc kim loại màu,  Gia công kim loạiLuyện kim đen,  Luyện kim màuPhân tích vật liệuNghiên cứu vật liệu  sử dụng ngày càng nhiều hơn để  giám sát  thành phần hóa học  của các nguyên tố trong kim loại.

Khác với các dòng máy tương tự của các hãng sản xuất khác,  thiết bị của hãng Hitachi high-tech sử dụng nhiều công nghệ vượt trội như sử dụng cảm biến CMOS, công nghệ Jet- stream, auto profiling…

  • Máy quang phổ phân tích hợp kim OE750 là dòng thiết bị phân tích thành phần kim loại có độ chính xác cao trong phòng thí nghiệm. Máy quang phổ phân tích hợp kim sử dụng phương pháp quang phổ phát xạ rất phổ biến trong phân tích hợp kim nhờ khả năng phân tích được nguyên tố carbon. Bộ nguồn tạo tia lửa điện thế hệ mới của thiết bị đảm bảo khả năng kích thích tối ưu cho nhiều loại hợp kim khác nhau. Hệ quang học Multi-CMOS độ phân giải cao cho phép phân tích chính xác cho toàn bộ dải phổ cho tất cả các hợp kim với các nền khác nhau
  • Bộ giá kẹp mẫu với kết cấu mở cả 3 chiều, cho phép việc phân tích an toàn, hiệu quả cho các mẫu với hình dạng khác nhau, kể cả có hình dạng bất thường. Hơn thế nữa máy quang phổ phân tích hợp kim OE750 sử dụng công nghệ Jet-stream-Technology bao phủ hiệu quả điện cực và mẫu trong giá kẹp mẫu với 1 dòng khí argon, giúp hệ thống đạt được 2 lợi thế:
    • Tiêu hao khí argon rất ít, giảm chi phí vận hành xuống mức tối thiểu
    • Không cần phải làm kín các mặt hở của giá thử cho phép đặt mẫu phân tích dạng ống, thanh, dây trên giá thử một cách dễ dàng. Việc này cho phép giảm tối đa thời gian chuẩn bị mẫu.
  • Phần mềm GRADE Database có 12 triệu tên gọi của 339,000 loại vật liệu từ 69 quốc gia và vùng lãnh thổ.

Xem thêm chi tiết thiết bị trên website của hãng sản xuất Hitachi high-tech

Website: https://hha.hitachi-hightech.com/en/product-range/product-selector

 

Máy chính
Kích thước 435 mm x 760 mm x  535mm (WxDxH)
Nguồn điện 100-250 VAC (50/60 Hz)
Khối lượng  88kg
Công suất tiêu thụ trung bình Máy chính 430W
Công suất tiêu thụ chế độ chờ 45W (50W Source on)
Khí Argon
Độ tinh khiết Min 4.8
Áp lực 3 Bar
Hệ thống quang học
Hệ quang học

Theo nguyên lý Paschen-Runge Mounting

Đường truyền ánh sáng trực tiếp đến buồng quang học.

Dải bước sóng phân tích 116– 766 nm
Cảm biến Cảm biến Multi-CMOS (4096 pixel per chip) với độ phân giải Pixel được tối ưu hóa.
Độ phân giải CCD 7 pico-meter
Độ tương phản  
Tiêu cự 400 mm
Mật độ rãnh  
Hệ thống chân không Bơm có công suất 700w, có độ ồn thấp, ít phát sinh nhiệt và không cần bảo dưỡng bơm.
Kết nối qua Shut-off- valve, dễ dàng bảo dưỡng và thay thế cửa sổ quang học
Bộ phát plasma Kỹ thuật phát tia lửa điện năng lượng cao (HEPS) giúp đốt mẫu tốt hơn
Cài đặt các thông số bằng phần mềm
Tần số: 80 – 500 Hz
Điện áp: 250- 500 V
Bộ giá kẹp mẫu Bộ giá kẹp mẫu với kết cấu mở cả 3 chiều, có thể đặt có những mẫu có kích thước
Kết cấu Jet-Stream-electrode cho thực hiện trên các mẫu nhỏ và mẫu có hình dạng phức tạp. Tối ưu hóa mức tiêu thụ Argon là thấp nhất.
Bàn kẹp mẫu được điều chỉnh đa năng
Tấm nắp có thể thay đổi cho từng loại mẫu khác nhau.
Giới hạn phân tích của 1 số nguyên tố  C: 2 ppm; B: 1ppm; Si: 5 ppm; P: 2 ppm; S: 2 ppm; Mg: 1 ppm; N: 5 ppm; O: 10ppm; 

• Fe Alloy (N 10 ppm)

• Al Alloy

• Cu Alloy: Bronze, Messing, Cu-Ni, …

• Ni Alloy (N 20 ppm)

Sản Phẩm đã xem

Hệ thống đang xử lý, vui lòng chờ